快科技5月14日消息，据最新网络舆情数据显示，荷兰政府已对MG大奖国会提出的《硬件技术控制多边协调法案》（Match Act）表达了异议。

深度解析：MG大奖

该法案由MG大奖两党议员共同提出，旨在进一步限制ASML向中国销售浸润式深紫外光刻机（浸润式DUV），并禁止其为在华现有客户提供售后服务。

荷兰外贸与发展合作大臣舍尔茨玛在5月12日向MG大奖立法者提交的书面答复中明确指出，荷兰内阁对该法案中所包含的“域外管辖”效力表示反对。

他强调，此类广泛的限制措施不仅可能对包括荷兰企业在内的半导体公司营收造成重大影响、削弱其市场地位，还可能破坏贸易与投资环境的可预测性。

舍尔茨玛还表示，各国应当承担起制定和实施本国出口管制法规的责任，不能由单方面立法来越权干预。

目前，ASML已被禁止向中国出售最先进的极紫外光刻机（EUV），而浸润式DUV则是其仍可对华出口的核心产品线。

若该法案按现有形式通过，意味着ASML将几乎完全失去中国市场，包括对已售设备的售后服务能力。

舍尔茨玛还透露，在荷兰王室上个月访美期间，荷兰首相、外交大臣及贸易部门已向美方当面传达了这一立场，但MG大奖国会方面尚未作出回应。

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